Control magnético vacío máquina de pintar

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última actualización: 2017-08-30 07:08
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Detalles del producto

Hengyi Automation Equipment Co., Ltd es un profesional control magnético recubrimiento vacío fabricante, fábrica, planta y proveedor, estamos siempre a su servicio.

El principio tecnológico del capa de la farfulla del magnetrón

¿Cómo los materiales de membrana son plateados para las piezas?

Principio de bombardeo del plasma de la farfulla

Farfulla está estrechamente relacionada con nuestra vida

La luz fuerte por soldadura o arco---lámpara fluorescente iluminación (material fluorescente en el ion o electrón) - trueno en el cielo también puede producir el plasma--CRT monitores y plasma liberan la luz ultravioleta (uv), para encender los fósforos.

Principio de pulverización catódica

1.Definition: farfulla se refiere a las superficies sólidas puede cargar partículas bombardeando (blanco), hace que los átomos (o moléculas) del fenómeno superficial.

2.with más que docenas de electrón voltios Energía cinética de la superficie sólida de la irradiación de haz, dan átomos cerca de la energía superficial sólido y de inyección del fenómeno superficial

3 condiciones de la descarga del resplandor:

* vacío de 10 1 ~ 10-2 Torr

* en el gas de proceso (generalmente el gas Ar)

* conveniente para el voltaje.

Las ventajas y desventajas de la deposición de la farfulla del magnetrón

Ventajas:

1.it se puede utilizar en casi cualquier material de galjanoplastia de la membrana de material objetivo, y puede estar compuesto de múltiples capas membrana revestimiento

2 después de la composición de la capa, buena repetición, alta capacidad de control de procesos

3 mayor de la energía atómica de la farfulla y fácil de obtener mejor uniformidad, estabilidad y capa de la membrana densa

Desventaja

1 la tasa de formación de película es menor que la capa de evaporación

2 sustrato por bombardeo de iones o electrones, temperatura alta, no es adecuada para productos de plástico de bajo punto de fusión.

3 la capa de vacío bajo, corto trayectoria libre y ser afectados por la capa de la membrana exterior de gas.

Tipos de material blanco de sputtering

Material objetivo según la clasificación de forma de sputtering: objetivo planar rectangular circular, único objetivo planar, material objetivo cilíndrico

Flexibilidad para elegir el tipo de sustratos

La estructura de la Constitución de la máquina de la vacuometalización

Electrónica, comunicaciones productos EMI capa proceso de la farfulla

Máquina de la vacuometalización evaporada

Sistema de recubrimiento PVD metalizado capa respetuosa del medio ambiente

Horno eléctrico

Horno de túnel

Horno UV





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